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表示对被测量变化的敏感程度，一般定义为测量仪器指示值（指针的偏置角度、数码的变化、位移的大小等）增量△y与被测量增量△x之比。
如示波器在输入电压的作用下，显示屏上光点偏移的距离就定义为偏转灵敏度，单位为mV/div、V/div。如GA1102CAL的垂直灵敏度：2mv/div~5v/div。
简单有2个办法:
用湿毛巾或者湿纸巾擦拭屏幕,清除表面的静电。
重启手机,如果还没有效果,就只能送修或者换手机了!
贴个钢化膜，在输入法设置移动速度快慢就可以了
手机屏幕保养：
极度怕静电：静电很容易击穿电容屏。虽然电容屏手机表面的那层玻璃都经过一定的抗静电处理，但不代表能抗得下冬天人体的静电，而且有不少人喜欢在其上面贴一张容易产生静电的劣质屏贴……口袋裸奔的要小心了。看来有配布袋的必要了。
怕油污和汗水等导电介质：覆盖在屏幕上会形成导电层，从而引起屏幕飘移。所以平时洗完手后，擦干再用手机。经常清理屏幕，冬天洗澡的时候不要带淋浴房。
怕“高”温：这里的“高”温并不是用火去烤，而是达到40度左右的温度，就有可能引起电容屏飘移，长期处在这个温度，电容屏就会翘辫子 。所以不要日光浴，不要在高温太阳下长时间使用。
怕磁场：特别是电磁场，那块小磁铁在电容屏上放一会，电容屏就会暂时性失效(也有可能会造成永久性损伤)别靠近音箱或带磁性的螺丝批等物品，回到家，不要把顺手手机放在音箱上。
怕不稳定的电压：一般当手指接触到电容屏时，会“吸”走一点点电流，然后屏幕从四个角落均匀送电到拇指所在的位置，并以此来做定位，所以电容屏在输电电压不稳定的情况下，会“飘移”甚至失效……电量低于20%最好马上充电。
电容屏更主要的缺点是漂移：当环境温度、湿度改变时，环境电场发生改变时，都会引起电容屏的漂移，造成不准确。例如：开机后显示器温度上升会造成漂移：用户触摸屏幕的同时另一只手或身体一侧靠近显示器会漂移;电容触摸屏附近较大的物体搬移后回漂移，你触摸时如果有人围过来观看也会引起漂移;电容屏的漂移原因属于技术上的先天不足，环境电势面(包括用户的身体)虽然与电容触摸屏离得较远，却比手指头面积大的多，他们直接影响了触摸位置的测定。
此外，理论上许多应该线性的关系实际上却是非线性。很简单的例子，体重不同或者手指湿润程度不同的人吸走的总电流量是不同的，而总电流量的变化和四个分电流量的变化是非线性的关系，电容触摸屏采用的这种四个角的自定义极坐标系还没有坐标上的原点，漂移后控制器不能察觉和恢复，而且，4个A/D完成后，由四个分流量的值到触摸点在直角坐标系上的X、Y坐标值的计算过程复杂。
1.尽量使用原装充电器：我们在给智能手机充电的时候，应该尽量使用原装的手机充电器以及充电线，这样的话手机的充电电压会比较平稳，相反，如果使用非原装充电器的话，很容易出现屏幕乱跳的情况，所以，尽量使用原装充电器。
2、拆卸电池：一般情况下，手机屏幕出现乱跳的情况，是因为手机屏幕上的静电太多导致的，我们这个时候应该拆卸电池，把手机屏幕搁置在阴凉处，放置5分钟后重启手机，或者觉得不合适的话，可以放置一夜，早晨起来再重启手机。
答：半导体气体是指半导体工业用的气体统称电子气体。
按其门类可分为纯气，高纯气和半导体特殊材料气体三大类。特殊材料气体主要用于外延，掺杂和蚀刻工艺;高纯气体主要用作稀释气和运载气。
1.常用半导体气体的分类
a.腐蚀性/毒性：HCl 、BF3、 WF6、HBr、SiH2Cl2、NH3、 PH3、Cl2、 BCl3等。b.可燃性：H2、CH4、SiH4、PH3、AsH3、SiH2Cl2、B2H6、CH2F2、CH3F、CO等。c.助燃性：O2、Cl2、N2O、NF3等。4.惰性：N2、CF4、C2F6、C4F8、SF6、CO2、Ne、Kr、He等。
2.半导体常见气体的用途
a.硅烷(SiH4):有毒。硅烷在半导体工业中主要用于制作高纯多晶硅、通过气相淀积制作二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜、多晶硅隔离层、多晶硅欧姆接触层和异质或同质硅外延生长原料、以及离子注入源和激光介质等，还可用于制作太阳能电池、光导纤维和光电传感器等。
b.锗烷(GeH4):剧毒。金属锗是一种良好的半导体材料，锗烷在电子工业中。主要用于化学气相淀积，形成各种不同的硅锗合金用于电子元器件的制造。
c.磷烷(PH3):剧毒。主要用于硅烷外延的掺杂剂，磷扩散的杂质源。同时也用于多晶硅化学气相淀积、外延GaP材料、离子注入工艺、化合物半导体的MOCVD工艺、磷硅玻璃(PSG) 钝化膜制备等工艺中。
d.砷烷(AsH3):剧毒。主要用于外延和离子注入工艺中的n型掺杂剂。
e.氢化锑(SbH3):剧毒。用作制造n型硅半导体时的气相掺杂剂。
f.乙硼烷(B2H6):窒息臭味的剧毒气体。硼烷是气态杂质源、离子注入和硼掺杂氧化扩散的掺杂剂，它也曾作为高能燃料用于火箭和导弹的燃料。
g.三氟化硼(BF3):有毒，极强刺激性。主要用作P型掺杂剂、离子注入源和等离子刻蚀气体。
h.三氟化氮(NF3):毒性较强。主要用于化学气相淀积(CVD) 装置的清洗。三氟化氮可以单独或与其它气体组合,用作等离子体工艺的蚀刻气体,例如, NF3、NF3/Ar、NF3/He用于硅化合物MoSi2的蚀刻; NF3/CC14、 NF3/HC1既用于MoSi2的蚀刻，也用于NbSi2的蚀刻。
3.半导体工业常用的混合气体
a.外延(生长)混合气：在半导体工业中，在仔细选择的衬底上选用化学气相淀积的方法，生长一层或多层材料所用的气体叫作外延气体。常用的硅外延气体有二氯二氢硅、四氯化硅和硅烷等。主要用于外延硅淀积、氧化硅膜淀积、氮化硅膜淀积，太阳能电池和其它光感受器的非晶硅膜淀积等。外延是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。
b.化学气相淀积(CVD)用混合气：CVD是利用挥发性化合物，通过气相化学反应淀积某种单质和化合物的一种方法，即应用气相化学反应的一种成膜方法。依据成膜种类，使用的化学气相淀积(CVD)气体也不同。
c.掺杂混合气：在半导体器件和集成电路制造中，将某些杂质掺入半导体材料内，使材料具有所需要的导电类型和一定的电阻率，以制造电阻、PN结、埋层等。掺杂工艺所用的气体称为掺杂气体。主要包括砷烷、磷烷、三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷、五氟化砷、三氟化硼、乙硼烷等。通常将掺杂源与运载气体(如氩气和氮气)在源柜中混合，混合后气流连续注入扩散炉内并环绕晶片四周，在晶片表面沉积上掺杂剂，进而与硅反应生成掺杂金属而徙动进入硅。
d.蚀刻混合气：蚀刻就是将基片上无光刻胶掩蔽的加工表面(如金属膜、氧化硅膜等)蚀刻掉，而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来，以便在基片表面上获得所需要的成像图形。蚀刻方法有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法化学蚀刻所用气体称为蚀刻气体。蚀刻气体通常多为氟化物气体(卤化物类)，例如四氟化碳、三氟化氮、三氟甲烷、六氟乙烷、全氟丙烷等。
4.半导体气体管道控制系统
半导体气体很多是对人体有害。特别是其中有些气体如SiH4的自燃性，只要一泄漏就会与空气中的氧气起剧烈反应，开始燃烧;还有AsH3的剧毒性，任何些微的泄漏都可能造成人员生命的危害，也就是因为这些显而易见的危险，所以对于系统设计安全性的要求就特别高。
a.大规模供气系统
大规模供气系统主要针对大规模量产的8-12英寸(1英寸=25.4毫米) 超大规模集成电路厂，100MW以上的太阳能电池生产线，发光二极管的磊晶工序线、5代以上液晶显示器工厂、光纤、硅材料外延生产线等行业。它们的投资规模巨大，采用最先进的工艺制程设备，用气需求量大，对稳定和不间断供应、纯度控制和安全生产提出最严格的要求。
b.常规供气系统
常规供气系统主要应用于4-6英寸 大规模集成电路厂，50MW以下的太阳能电池生产线，发光二极管的芯片工序线以及其它用气量中等规模的电子行业。它们的投资规模中等，生产线可能是二手设备，对气体纯度控制的要求不苛刻，系统配备在满足安全的前提下尽量简单，节省投资。
c.简单供气系统
简单供气系统主要针对4英寸及以下半导体芯片厂、半导体材料的科研机构等。它们的制程简单，通常不需要连续性供气，对气体供应系统的投资预算低，生产和管理人员欠缺安全意识。
5.半导体气体传感器
半导体气体传感器是利用半导体气敏元件作为敏感元件的气体传感器，是最常见的气体传感器，广泛应用于家庭和工厂的可燃气体泄露检测装置，适用于甲烷、液化气、氢气等的检测。在一定的温度条件下，被测气体到达半导体敏感材料表面时将与其表面吸附的氧发生化学反应,并导致半导体敏感材料电阻发生变化，其电阻变化率与被测气体浓度呈指数关系，通过测量电阻的变化即可测得气体浓度。单支半导体气体传感器通过选择性催化、物理或化学分离等方式在已知环境中可以实现对气体的有限识别。大规模半导体气体传感器阵列可以实现对未知环境中气体种类的精确识别。
6.半导体工业中特种气体的应用
特种气体是光电子、微电子等领域，特别是超大规模集成电路、液晶显示器件、非晶硅薄膜太阳能电池、半导体发光器件和半导体材料制造过程不可缺少的基硅性支撑源材料。它的纯度和洁净度直接影响到光电子、微电子元器件的质量、集成度、特定技术指标和成品率，并从根本上制约着电路和器件的精确性和准确性。
显示器的主要技术指标：
1。分辨率：LCD的分辨率与CRT显示器不同，一般不能任意调整，它是制造商所设置和规定的。分辨率是指屏幕上每行有多少像素点、每列有多少像素点，一般用矩阵行列式来表示，其中每个像素点都能被计算机单独访问。
2。刷新率：LCD刷新频率是指显示帧频，亦即每个像素为该频率所刷新的时间，与屏幕扫描速度及避免屏幕闪烁的能力相关。也就是说刷新频率过低，可能出现屏幕图像闪烁或抖动。
3。响应时间：响应时间愈小愈好，它反应了液晶显示器各象素点对输入信号反应的速度，即pixel由暗转亮或由亮转暗的速度。响应时间越小则使用者在看运动画面时不会出现尾影拖拽的感觉。一般会将反应速率分为两个部份：Rising 和Falling；而表示时以两者之和为准。
4。可视角度 一般而言，LCD的可视角度都是左右对称的，但上下可就不一定了。而且，常常是上下角度小于左右角度。当然了，可视角是愈大愈好。然而，大家必须要了解的是可视角的定义。当我们说可视角是左右80度时，表示站在始于屏幕法线80度的位置时仍可清晰看见屏幕图像，但每个人的视力不同；因此我们以对比度为准。在最大可视角时所量到的对比度愈大愈好。
5。对比度对比度是指图像最亮的白色区域与次暗的黑色区域之间的比值。在CRT 显示器中，对比度对其信能的影响并不引起人们的重视。而在液晶显示器中，对比度却是衡量其好坏的主要参数之一。
触摸板（TouchPad或TrackPad），是一种广泛应用于笔记本电脑上的输入设备。其利用感应用户手指的移动来控制指针的动作。
触摸板可以视作是一种鼠标的替代物。在其他一些便携式设备上，如个人数码助理与一些便携影音设备上也能找到触摸板。受到设计限制，触摸板通常不大于20平方厘米。这其中以苹果公司MacBook Pro配备的多点触控板最为出色，可用于显示屏放大缩小等手势(gesture)，以及手写输入之用途。
它利用了苹果的multi-touch技术。这项技术最早由FingerWorks（旧金山的一家小公司，后被苹果收购）研发并申请专利，后来首先被应用在iPhone上。